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5 Days証明書 :
CE, IOS, ROHS, SGS, UL Certificate保証 :
Two years limited warranty with lifetime technical supportpecvd用のRF電源
PECVDシステムは、主に金属薄膜の成長に使用される、管炉,石英真空チャンバー,真空システム,ガス供給システム,および高周波電源システム.で構成されています。 ,セラミック薄膜,複合薄膜,グラフェン,など.機能の追加が簡単,で、プラズマ洗浄やエッチングなどの機能を拡張できます.PECVDシステムには高い膜堆積速度の利点,良好な均一性,高い一貫性と安定性.
RF電源の主な技術的パラメータ：
電力出力範囲 | 0-500w |
最大反射電力 | 200ワット |
動作周波数 | rf：13.56mhz±0.005％ |
電力安定性 | +/- 0 . 1％ |
高調波成分 | ≤-50dbc |
rf領域幅 | 0-600mm調整可能 |
マッチング方法 | 自動 |
冷却モード | 風邪のポイント |
ノイズ | <50db |
無線周波数インターフェース | 50Ωn型 |
入力電力 | 208-240v 50 / 60HZ |
1つの標準的な輸出パッケージ：内部衝突防止保護,外部輸出木箱パッケージ.
2エクスプレスでの配送,飛行機での配送,お客様の要件に応じた海上での配送'最適な方法を見つけるための要件.
発送プロセス中の損傷の責任を負う3,は、損傷部分を無料で変更します.
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