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実験炉

CVD炉

PECVD用RF電源

PECVD用RF電源

営業部長: ギア

Eメール: gia @ tmaxlaboratory . com

wechat: dingqiuna

  • アイテム番号.:

    TMAX-RFPower
  • 支払い:

    L/C, T/T, Western Union, Credit Cards, Paypal
  • 出荷ポート:

    Xiamen Port
  • リードタイム:

    5 Days
  • 証明書 :

    CE, IOS, ROHS, SGS, UL Certificate
  • 保証 :

    Two years limited warranty with lifetime technical support
製品詳細


pecvd用のRF電源




PECVDシステムは、主に金属薄膜の成長に使用される、管炉,石英真空チャンバー,真空システム,ガス供給システム,および高周波電源システム.で構成されています。 ,セラミック薄膜,複合薄膜,グラフェン,など.機能の追加が簡単,で、プラズマ洗浄やエッチングなどの機能を拡張できます.PECVDシステムには高い膜堆積速度の利点,良好な均一性,高い一貫性と安定性.


RF電源の主な技術的パラメータ:

電力出力範囲

0-500w

最大反射電力

200ワット

動作周波数

rf:13.56mhz±0.005%

電力安定性

+/- 0 . 1%

高調波成分

≤-50dbc

rf領域幅

0-600mm調整可能

マッチング方法

自動

冷却モード

風邪のポイント

ノイズ

<50db

無線周波数インターフェース

50Ωn型

入力電力

208-240v 50 / 60HZ

RF Power Supply

Tmax CE

TMAX Partner

CVD furnace


tube furnace


muffle furnace



1つの標準的な輸出パッケージ:内部衝突防止保護,外部輸出木箱パッケージ.

2エクスプレスでの配送,飛行機での配送,お客様の要件に応じた海上での配送'最適な方法を見つけるための要件.

発送プロセス中の損傷の責任を負う3,は、損傷部分を無料で変更します.



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