SEM サンプル前処理用高真空マグネトロンイオン DC または RF スパッタコーティングコーター

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商品番号:
TMAX-650MH
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出荷港:
Xiamen Port
リードタイム:
5 Days
証明書 :
CE, IOS, ROHS, SGS, UL Certificate
保証 :
Two years limited warranty with lifetime technical support

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製品詳細

SEM サンプル前処理用高真空マグネトロンイオン DC または RF スパッタコーティングコーター

はじめに

高真空マグネトロンイオンスパッタリングコーターは、材料科学およびサンプル前処理に最適で設計されています。これは、金属、セラミック、半導体、絶縁体、またはその他の種類の膜材料の準備をコーティングするために、大部分の大学および材料科学および工学の科学研究機関で広く使用されています

。

高真空マグネトロンイオンスパッタリングコータは、最も安定したスパッタリング環境を提供し、非常に短時間でマグネトロンスパッタリングの基本的な実験条件を達成します。 DC / RF の 2 種類のスパッタリング電力オプションを提供し、試料上に導電性または非導電性物質をスパッタリングできるようにし、物理蒸着 (PVD) パフォーマンスを向上させます。表面処理やコーティングにも優れています。操作も簡単で、ユーザーフレンドリーです。

真空ポンプとチラーが含まれています。

パラメータ

真空ポンプポンプセット	(Oil 必須) rotary vacuum pump+(oil free) tウルボmオレキュランpポンプセット
ロータリーポンプポンプスピードスピード	50 Hz : 16 m?/h (4.4 L/s)/ 60 Hz : 19.2m?/h (5.2 L/s)
分子ポンプポンプ s速度	300 L/s
真空l制限	5x10^-5Pa
作業 p圧力	0.5～5Pa
掃除機をかけていますティ私	10分(10^-3Pa)
真空m測定	測定範囲大気圧から1×10^-6Pa
ガス cコントロール	ガスf低cコントローラー
チャンバーは化	Ï260*200mm (高さ) metal
マグネトロンtターゲットのソース	ターゲットサイズ Ï 50*3mm(Cu)/tターゲットソース: weakm磁性s物質 /mアテリアル
作戦方法方法	取扱説明書l
重量/サイズサイズ	100kg/長さ610mm×幅420mm×高さ490mm
電源の供給	AC110V 60Hz または AC220V 50Hz
電力 c消費	<3000W
冷却m方法<334	エア cウーリング(pump)+ water cooling(sパタリング tターゲット)
保証	1 年間の限定保証と生涯製品サポートt