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スパッタリングコーティング装置

低真空

マグネトロンスパッタリング

900M(シングルターゲット)

プラズマスパッタリング

900 amd 800(単一ターゲット); SD-2000III(ターゲット3体)

熱蒸発

800Cおよび980(カーボンロープ、ターゲットヘッドなし)

マグネトロンスパッタリング+熱蒸着

900C(シングルターゲット)、その他の場合はカーボンロープ

高真空

マグネトロンスパッタリング

SD-650MH(DC+DC、DC+RF、RF+RF)

熱蒸発

SD-100AF(熱蒸発カーボンロッド、モリブデンボート、タングステン線バー)

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